ニオブ酸リチウム光導波路の最も一般的な製造方法はプロトン交換法と金属拡散法である。ただし、これらの方法で作製した導波路デバイスでは、導波路層と基板層の屈折率差が比較的小さく、光閉じ込め効果が弱い。さらに、製造プロセス中に導入される外来イオンがニオブ酸リチウム結晶本来の特性を劣化させるため、導波路の性能に悪影響を及ぼす。
ニオブ酸リチウム単結晶薄膜（LNOI）に基づくリッジ型導波路構造は、導波路コアとクラッド間の屈折率差を大幅に増加させる。これにより、光閉じ込め効果が著しく強化され、ニオブ酸リチウム導波路における非線形光学効果の増強が可能となる。さらに、このリッジ型構造は光学損傷閾値が高いため、高電力周波数変換デバイスの作製に適している。